反射光谱干涉传感器
θmetrisis反射光谱干涉是采用White Light Reflectance Spectroscopy (WLRS) 白光反射光谱是测量从单层薄膜或多层薄膜堆叠结构的一个波长范围内的反射量，入射光垂直于样品表面，由于界面干涉产生的反射光谱被用来计算确定（透明或部分透明或完全反射基板上）薄膜的厚度、光学常数（N&K）等。当宽光源（紫外、可见、红外光）射到薄膜上时，会在薄膜的上表面和下表面分别发生反射。这两束反射光相遇时，就会发生干涉。如果两束光相位相同（波峰对波峰），则相互增强，反射光变强。如果两束光相位相反（波峰对波谷），则相互抵消，反射光变弱。这种相长或相消干涉的程度，取决于两束光之间的光程差。
WLRS利用光强度，测量在一定波长范围内从薄膜或多层堆栈反射的光量，入射光垂直于样品表面。光谱反射还可以测量各种薄膜的厚度、粗糙度、均匀性和光学常数。要确定这些薄膜参数，薄膜的厚度应至少提供一个反射振荡。WLRS并不直接测量物理性质本身，而是测量由物理性质引起的系统的光学响应。因此，需要通过求解逆问题来找到实际感兴趣的物理性质的值，例如各层的厚度和材料的光学性质。这个逆问题通过数值方法解决，即找到测量数据与计算数据之间的最佳拟合，物理性质则是从给出最佳拟合的模型中推断出来。
它广泛应用于各种不同的测量应用：薄膜厚度、折射率、颜色、透射率、反射率等等。
有下列波长范围 可配置选择: VIS/NIR (370-1020nm), UV/NIR (200-850nm), UV/NIR-EXT (200-1000nm), UV/NIR-HR (190-1100nm) NIR-N1 (850-1050nm), NIR (900-1700nm). D VIS/NIR (380-1700nm)
应用领域：
.大学 & 研究实验室
.半导体
.聚合物和光刻胶 厚度测量
.化学测量
.介电材料膜厚度测量
.生物医学
.硬涂层，阳极氧化， 金属零件加工
.光学镀膜
FR-ES系列反射光谱传感器
| 产品型号 | VIS/NIR | NIR | NIR-N1 | D VIS/NIR | UV/NIR | UV/NIR-EXT | UV/NIR-HR |
| 波长范围(nm) | 380-1020 | 900-1700 | 850-1050 | 380-1700 | 200-850 | 200-1000 | 190-1100 |
| 像素 | 3648 | 512 | 3648 | 3748&512 | 3648 | 3648 | 2048 |
| 最小可测厚度(SiO2) | 12nm | 50nm | 1μm | 12nm | 1nm | 1nm | 1nm |
| 最大可测厚度(SiO2) | 120μm | 250μm | 500μm | 250μm | 80μm | 90μm | 100μm |
| 可测n&k最小厚度 | 100nm | 500nm | 100nm | 50nm | 50nm | 50nm | |
| 厚度精度误差 | 1nm/0.2% | 3nm/0.4% | 50nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% |
| 重复精度 | 0.05nm | 0.1nm | 0.1nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm |
| 厚度稳定性 | 0.05nm | 0.15nm | 0.15nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm |
| API调用 | 支持 | 支持 | 支持 | 支持 | 支持 | 支持 | 支持 |
| 光源 | 卤素灯（平均故障间隔3000h) | 氘灯-卤素灯（平均故障间隔2000h) | |||||
| 积分时间 | 5ms(min) | 0.5ms(min) | 5ms(min) | 5ms(min) | 5ms(min) | 5ms(min) | 1ms(min) |
| 光斑直径 | 350μm-400μm(可选配更小光斑直径） | ||||||
| 材料数据库 | >800种不同材料 | ||||||
| 外形尺寸及重量 | FR-ES: 20x22x6cm (LxWxH), 1.8Kg （不含载物台）, FR-ES D: 20x27x12cm (LxWxH), 3.3Kg (不含载物台) | ||||||
| 电源及功率 | 110V/230V, 50-60Hz, 20-50W | ||||||
参数说明：
1.规格如有变更，恕不另行通知
2.厚度精度误差:与校正过的光谱椭偏仪和x射线衍射仪的测量结果匹配
3.重复精度:标准偏差100次厚度测量结果，样品:硅晶片上1微米SiO2
4.厚度稳定性：15天内每日平均值的2*标准差
其它附件选配
| 聚焦模块 | 安装在反射探头上的光学模块，用于 <100μm 直径的光斑尺寸 |
| 膜厚/比色皿 | 标准比色皿中薄膜或液体的透射测量 |
| 接触探头 | 现场涂层的厚度和光学测量。非常适合曲面 |
| 显微镜 | 基于显微镜的反射率和厚度测量，具有较高的横向分辨率 |
| 手动X-Y 载物台 | 手动 X-Y 载物台，用于在 25x25mm /100x100mm / 200x200mm 的区域内进行测量 |
FR-Mini系列反射光谱传感器
| 产品型号 | VIS | NIR/NIR-LC | NIR/NIR-UR | VIS/NIR | UV/NIR-HR | UV/NIR-LC | VIS/NIR+ |
| 波长范围(nm) | 400-850 | 380-1050 | 380-1100 | 380-1020 | 190-1100 | 200-850 | 380-1020 |
| 像素 | 512 | 1024 | 2048 | 3748 | 2048 | 1024 | 3648 |
| 最小可测厚度 | 25nm | 25nm | 15nm | 12nm | 1nm | 1nm | 12nm |
| 最大可测厚度 | 40μm | 50μm | 100μm | 120μm | 100μm | 30μm | 120μm |
| 可测n&k最小值 | 500nm | 100nm | 100nm | 100nm | 50nm | 50nm | 100nm |
| 厚度精度误差 | 4nm/0.5% | 2nm/0.4% | 2nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 2nm/0.2% |
| 重复精度 | 0.2nm | 0.2nm | 0.1nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.1nm | 0.05nm |
| 厚度稳定性 | 0.2nm | 0.1nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.1nm | 0.05nm |
| API调用 | - | - | 支持 | 支持 | 支持 | - | 支持 |
| 光源 | 钨丝灯（平均故障间隔>3000h) | 混合光源（平均故障间隔20000h) | |||||
| 积分时间 | 10ms(min) | 1ms(min) | 5ms(min) | 5ms(min) | 5ms(min) | 5ms(min) | 5ms(min) |
| 光斑直径 | 350μm-400μm(可选配更小光斑直径） | ||||||
| 材料数据库 | >850种不同材料 | ||||||
| 外形尺寸及重量 | 23x16x10cm (LxWxH),1.6Kg 不含载物台 | ||||||
| 电源及功率 | 110V/230V, 50-60Hz, 20-50W | 通过 USB 2.0/3.0 | |||||
参数说明：
1.规格如有变更，恕不另行通知
2.厚度精度误差:与校正过的光谱椭偏仪和x射线衍射仪的测量结果匹配
3.重复精度:标准偏差100次厚度测量结果，样品:硅晶片上1微米SiO2
4.厚度稳定性：15天内每日平均值的2*标准差
其它附件选配
| 聚焦模块 | 安装在反射探头上的光学模块，用于 <100μm 直径的光斑尺寸 |
| 膜厚/比色皿 | 标准比色皿中薄膜或液体的透射测量 |
| 接触探头 | 现场涂层的厚度和光学测量。非常适合曲面 |
| 显微镜 | 基于显微镜的反射率和厚度测量，具有较高的横向分辨率 |
| 手动X-Y 载物台 | 手动 X-Y 载物台，用于在 25x25mm /100x100mm / 200x200mm 的区域内进行测量 |
FR-Scanner薄膜厚度测量仪
FR-Scanner 是一款紧凑的台式测量工具，全自动测绘涂层的厚度，基底适用于晶圆，掩膜版及其它材料。可以快速和准确地测量薄膜特性，比如厚度，折射系数，均匀性，色度等，真空吸盘可应用于任何直径或其它形状的样品。
FR-Scanner 通过旋转晶圆片和以无与伦比的速度和精度(半径和角度)线性移动晶圆片进行扫描整个晶圆片，通过这种方式，可以记录具有高重复性的精确反射率数据，使FR-Scanner成为at-line及on-line测绘晶圆上的涂层或其他基片上涂层的理想工具。
FR-Scanner提供了广泛的应用配置，薄膜薄到几纳米，厚到几百微米，并配置专用的软件用于日常使用。FR-Scanner在准确性、精度、再现性和长期稳定性方面都提供了出色的性能。
FR-Scanner应用领域：半导体生产制造、光伏产业、大学，研究所，实验室、液晶显示、光学薄膜、聚合物、微机电和微光机电、基底。
| 产品型号 | UV/Vis | UV/NIR-EXT | UV/NIR-HR | D UV/NIR | VIS/NIR | D Vis/NIR | NIR | NIR-980 | NIR-1310 |
| 波长范围(nm) | 200-850 | 200-1020 | 190-1100 | 200-1700 | 370-1020 | 370-1700 | 900-1700 | 900-1050 | 1280-1350 |
| 像素 | 3648 | 3648 | 3648 | 3648&512 | 3648 | 3648&512 | 512 | 3648 | 512 |
| 厚度范围 | 3nm-80um | 3nm-90um | 3nm-120um | 1nm-250um | 15nm-100um | 15nm-250um | 50nm-250um | 300nm-1.2mm | 12um-2mm |
| 可测n&k最小厚度 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm | - | - |
| 厚度精度误差 | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 2nm/0.2% | 3nm/0.4% | 50nm/0.2% | 50nm/0.2% |
| 重复精度 | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.02nm | 0.1nm | 5nm | 5nm |
| 厚度稳定性 | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nmnm | 0.15nm | 5nm | 5nm |
| 光源 | 氘灯与卤素灯（平均故障间隔2000h) | 卤素灯（平均故障间隔10000h) | SLED灯（平均故障间隔200000h) | ||||||
| 积分时间 | Wafers:2in-3in-4in-8in-300mm | ||||||||
| 角度分辨率 | 5μm/0.1° | ||||||||
| 材料数据库 | >650种不同材料 | ||||||||
| 扫描速度 | 300meas/min(8英寸晶圆） | ||||||||
| 外形尺寸及重量 | 600W x 750L x 500H & 450W x 320L x 250H | ||||||||
| 电源及功率 | 110V/230V, 50-60Hz, 300W | ||||||||
参数说明：
1.规格如有变更，恕不另行通知
2.厚度精度误差:与校正过的光谱椭偏仪和x射线衍射仪的测量结果匹配
3.重复精度:标准偏差100次厚度测量结果，样品:硅晶片上1微米SiO2
4.厚度稳定性：15天内每日平均值的2*标准差
5.卡盘可容纳任意形状的样品
